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等離子除臭設(shè)備

日期:2011-12-16 瀏覽:

等離子除臭設(shè)備

    等離子除臭設(shè)備處理臭味及揮發(fā)性有機物的主要過程是:將廢氣引入凈化區(qū)的同時,電器控制元件通過微波傳輸在凈化區(qū)放電,使氣體電離,在凈化區(qū)內(nèi)產(chǎn)生大量等離子體。因此,等離子除臭設(shè)備主要由兩大部分組成:
1)電器控制部分 由大規(guī)模集成電路、集成模塊、半導(dǎo)體元器件組成,產(chǎn)生加速,發(fā)射,調(diào)控,自動保護電路。
2)凈化區(qū)部分 由極棒、鉬絲及附件組成等離子方陣構(gòu)成諧振區(qū),分解區(qū),氧化區(qū),收集區(qū)。裝置由不銹鋼材、銅材、鉬材、環(huán)氧樹脂等加工而成。
一、主要技術(shù)標準:
使用電壓:220V;
工作電壓:80V—250V;
工作頻率:30GHZ—300GHZ;
耗 電 量:處理1000m3/h,耗電0.25千瓦;
工作溫度:250℃以下,-50℃以上;
環(huán)境溫度:-50℃~50℃;
工作濕度:適應(yīng)飽和水霧環(huán)境;
凈 化 率:75-95%(不同成分的氣體去除率有所不同);
滅 菌 率:100%;
規(guī)    格:1800mm×500mm×3300mm;或根據(jù)處理的氣量、濃度及場地情況設(shè)計。
二、去除原理
    等離子體是物質(zhì)存在的第四形態(tài)。它是由電子、離子、中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子和自由基等組成。等離子體是電離度大于0.1%,且其正負電荷相等的電離氣體。電子和正離子的電荷數(shù)相等,整體表現(xiàn)出電中性。
    等離子體凈化技術(shù)的主要機理是:在外加電場的作用下,電極空間里的電子獲得能量后加速運動,以每秒鐘300萬次至3000萬次的速度去撞擊異味氣體分子,當電子的能量與異味氣體分子的某一化學(xué)鍵鍵能相同或略大時,發(fā)生非彈性碰撞,電子將大部分動能轉(zhuǎn)化為污染物分子的內(nèi)能,從而引發(fā)了使其發(fā)生激發(fā)、離解或電離等一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng),使得產(chǎn)生臭味的基團化學(xué)鍵斷裂,再經(jīng)過多級凈化而達到除臭目的。
其主要過程可通過以下反應(yīng)式表達:(XY-污染物分子,e-電子)
1)激    發(fā):  e XY  —— XY* e
2)中性離解:  e XY —— X Y e
3)直接離子化:e XY —— XY2e
4)離子化離解:e XY —— X Y2e,Y X 2e
5)形成負離子:e XY —— XY-  (電子吸附)
               e XY —— XY-  (離解吸附)
中性離解和離子化離解產(chǎn)生大量帶有未成對電子的中性基團,使等離子體具有活潑的化學(xué)反應(yīng)性。
 

 

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